可形成更薄的薄膜 能在電容器薄膜表面形成均勻、致密的遮蔽層,膜層可薄至4~5微米級,甚至2微米,精確阻擋蒸鍍材料在非目標(biāo)區(qū)域附著,確保蒸鍍圖案的高精度和薄膜性能的一致性。
更低的低溫適應(yīng)性 更薄的膜需要更低的低溫適應(yīng)性,各型號產(chǎn)品具有不同的適用溫度范圍,可滿足多種蒸鍍工藝環(huán)境需求,在相應(yīng)溫度區(qū)間內(nèi)保持穩(wěn)定的性能,不發(fā)生固化或過度揮發(fā)。
良好的潤滑性 具備合適的粘度和潤滑性能,可有效降低蒸鍍設(shè)備部件間的摩擦與磨損,減少設(shè)備故障,延長設(shè)備使用壽命,保障蒸鍍過程的順暢進(jìn)行。
化學(xué)穩(wěn)定性高 對高DK膜表面有良好的附著力,同時不會滲透或影響膜層結(jié)構(gòu)。對蒸鍍過程中可能接觸到的化學(xué)物質(zhì)具有良好耐受性,不易發(fā)生化學(xué)反應(yīng),保證產(chǎn)品在復(fù)雜化學(xué)環(huán)境下的長期有效性和穩(wěn)定性。
低揮發(fā)性 在正常蒸鍍溫度條件下,蒸發(fā)損失較低,減少了因揮發(fā)導(dǎo)致的油液損耗和對蒸鍍環(huán)境的污染,同時有助于維持產(chǎn)品性能的穩(wěn)定性。
主要應(yīng)用于各類電容器薄膜的蒸鍍生產(chǎn)工藝,包括但不限于鋁電解電容器、薄膜電容器等的制造過程,用于對電容器薄膜特定區(qū)域進(jìn)行遮蔽保護(hù),以及對蒸鍍設(shè)備相關(guān)部件進(jìn)行潤滑。
| 典型數(shù)據(jù) | THD-100A | THD-100 | THD-101 | THD-102 | 測試方法 | |
| 適用溫度范圍 ℃ | -70~66 | -70~104 | -65~132 | -60~132 | - | |
| 平均分子量 amu | 1200 | 1500 | 1650 | 1700 | - | |
| 粘度 cSt 20℃(68°F) | 7 | 18 | 28 | 38 | ASTM D445 | |
| 粘度 cSt 40℃(104°F) | 4 | 8 | 12 | 15 | ASTM D445 | |
| 粘度 cSt 100℃(212°F) | - | 2 | 2.5 | 3 | ASTM D445 | |
| 粘度指數(shù) | - | - | - | 54 | ASTM D2270 | |
| 傾點 ℃ | <-70 | -70 | -65 | -60 | ASTM D97 | |
| 密度 g/mL 0℃(32°F) | 1.87 | 1.89 | 1.9 | 1.91 | ASTM D4052 | |
| 密度 g/mL 100℃(212°F) | 1.67 | 1.7 | 1.71 | 1.72 | ASTM D4052 | |
| 蒸發(fā)損失 % 66℃(150°F),22h | <11 | <2 | <2 | <2 | ASTM D972 | |
| 蒸發(fā)損失 % 121℃(250°F),22h | - | <80 | <30 | <20 | ASTM D972 | |
| 以上數(shù)據(jù)只提供參考,不具契約書性質(zhì) | ||||||
“基礎(chǔ)油、添加劑、稠化劑” 均采用世界各國的潤滑材料
所有原材料采購?fù)ㄟ^環(huán)保ROHS認(rèn)證和REACH認(rèn)證,100%保障產(chǎn)品質(zhì)量.
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